Semitron® MPR 1000 PAI

Kształty Semitron® MPR 1000 ma doskonałą odporność na ciepło i niskie szybkości Outgassing i erozji w komorach plazmowych. Ten materiał o wysokiej czystości o niskiej zawartości jonowej jest często wybierany do zastosowań komory próżniowej w podrzędności podwodnych Exch, CVD i Ion Implant w przemyśle półprzewodników i elektroniki.

Semitron® MPR 1000 pokazuje zwiększony okres tradycyjnych materiałów, na przykład do 25x nad poliimidem u ozonu w niektórych przypadkach. Ze względu na swoją długowieczność jest określona w stosunku do tradycyjnych materiałów stosowanych w zastosowaniach komory próżniowej, takich jak kwarc, ceramika, poliimidy i inne tworzywa inżynieryjne.

Właściwości materiału

Niska zawartość jonowa i niskie outgassing

Doskonała odporność na ciepło

Zminimalizowana szybkość erozji w komorach plazmatycznych

Optymalny odporność na wiór, trwałość i maszyna

Zaprojektowany specjalnie do wymagających aplikacji komory

Zastosowania: komory próżniowe na bazie plazmy, pierścienie zacisków, pierścienie wykop, śruby, szpilki, głowice prysznicowe, pierścienie ostrości, izolatory, podkładki próżniowe

O Semitron ®

Opracowano produkty półprzewodników Semitron®, aby pomóc projektantom i użytkownikom optymalizować wydajność urządzeń do produkcji urządzeń. Oprócz produkcji urządzeń wiele z tych materiałów jest idealnych dla określonych środowisk, w których wymagane jest oporność na zużycie, odporność chemiczną i zarządzanie elektrycznością statyczną.

Opracowano dwie grupy produktów. Jedno, dobrze dostosowane do obsługi urządzeń i aplikacji testowych, a drugi do zastosowań CMP, plazmy i komory wytrawnej nowej generacji.

Klasy półtronowe są dostępne w arkuszach, pręcie (niektóre preparaty) i części obrabianych.